半導体の製造工程での産業ガスの利用は、バルクガスと特殊材料ガスに分けられます。バルクガスには、 窒素 ・ アルゴン ・ 水素 ・ 酸素 ・ ヘリウム が含まれ、窒素は各種パージ、キャリア、保安用向けに、水素・アルゴン・ヘリウムは特殊材料ガスのキャリア向けとして使われています。また特殊材料ガスは @ ケイ素系ガス A ドーピング系ガス B エッチング系ガス C CVD材料ガス D クリーニング系ガスとして様々なガスが使われています。管球封入用としては、一般電球、蛍光管にアルゴン・窒素をベースにした混合ガスが用いられ、ネオン管や液晶バックライト用混合ガスとして一般管球の一部で ネオン が使われ、 クリプトン はクリプトン球と自動車ライトとして用いられるハロゲン球に用いられます。液晶ディスプレイ用としてはベント・パージ・キャリア用として窒素が大量に使用されています。また、プラズマCVD工程では多様な 特殊ガス が使用されています。
窒素[N2]、酸素[O2]、アルゴン{Ar]、水素[H2] 、特殊ガス[Specialty gases]、ヘリウム[He]、希ガス[Rare gases]